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由于铟靶材在半导体制造等领域有重要应用,一些半导体相关的企业和科研机构可能会有收购铟靶材的需求。这些企业通常对铟靶材的质量和规格有较高的要求,它们可能会通过专业的渠道或与行业内的供应商建立合作关系来获取铟靶材。
ITO靶材回收流程
1. 收集废靶材:收集来源:面板厂、镀膜厂等使用ITO靶材的企业。
2. 表面处理/预处理 :清洗表面杂质、油污、物理去除残留膜层
3. 靶材分离:机械切割或分解、分离金属基板与ITO涂层
4. 湿法冶金回收:用酸(如硝酸、盐酸等)溶解ITO层、萃取液中回收铟和锡元素
5. 纯化与精炼 萃取、沉淀等精细化学手段,获得高纯度的铟、锡化合物
6. 再利用 提纯后的铟、锡用于制备新ITO靶材或其他用途
ITO靶材主流回收技术
机械物理分离:适合较厚靶层,回收效率高。
湿法化学回收:利用酸碱进行溶解分离,适合大批量废靶材。
热处理工艺:部分回收方案采用高温分离,能耗较大。
ITO靶材回收注意事项:
安全措施:处理酸碱和废液时需注意安全和环保。
环保合规:废液和残渣需达标处理,避免二次污染。
回收效率:合理选择工艺,提高铟、锡的回收率和纯度。